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半导体工厂超纯水简报.ppt

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半导体工厂超纯水简报.ppt

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半导体工厂超纯水简报.ppt

文档介绍

文档介绍:半导体工厂超纯水简报
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22/Jul./2014
总流程
原水
(中央动力厂房)。CUB是半导体工厂的心脏,制程用的水电空调化学品等一般都是从这里输出。
运行参数:原水一般水量为195m³/h,最大水量为250m³/h,水压3bar。
多介质过滤器(MMF/砂滤)
%NaOCl后通过热交换器再次加10%PAC后进入多介质过滤器。

,定期反洗。
用途:主要去除不能溶解的悬浮颗粒和胶体杂物。
运行参数:产水量最大为250m³/h,,温度20-20℃。
玻璃钢水箱(FRP水箱)

(每组两台),一组用于反清洗,一组用于给ACF活性炭过滤器供水。
,桶高5m。
运行参数:出口压力为7bar,温度为20-30℃。
迈博瑞生物膜技术南通有限公司
活性炭过滤器(ACF/碳滤)
,内部填充颗粒活性炭。
,正反洗水都回收至废水池,产水为过滤水。
用途:再次处理水中不能溶解的悬浮颗粒和胶体杂物。
运行参数:产水量为200-260m³/h,出口压力为6bar,温度20-30℃。
阴阳离子交换床
(阴离子桶)加HCl,后AIX(阴离子桶)加NaOH处理,CIX和AIX 可以单独运行。
用途:处理水中的阴阳离子。
,再生水进入废水池,出水为去离子水。
运行参数:产水量为207m³/h,压力为3bar,温度为20-30℃。
保安过滤器(SFL)
%NaOH后进入保安过滤器。

用途:微滤过滤器保护后端RO膜,不达标的水质和频繁清洗都会影响RO膜的寿命、提升成本。
运行参数:280m³/h,,温度21-30℃。
反渗透过滤膜(RO膜)

,不达标产水进入过滤水箱,浓水进入废水池。

运行参数:产水水量为248m³/h,出水压力为2bar,温度为21-30℃;浓水水量为18m³/h,出水压力为2bar,温度为24-30℃。
RO水箱
,并使用氮气密封。
,一组UV供水,一组阴阳离子交换床冲洗水,一组冷凝设备供水。
运行参数:产水水量为185m³/h,出口为6bar,温度21-30℃。
迈博瑞生物膜技术南通有限公司