文档介绍：报告人:孟伟
离子束刻蚀应用
什么是离子?什么是离子束?
离子:带电荷的原子或分子。带正电荷的离子称“正离子”,带负电荷的离子称“负离子”。
离子束:以近似一致的速度沿几乎同一方向运动的一群离子。
离子束刻蚀(IBE)
离子束刻蚀是利用具有一定能量的离子轰击材料表面,使材料原子发生溅射,从而达到刻蚀目的.
把Ar、Kr或Xe之类惰性气体充入离子源放电室并使其电离形成等离子体,然后由栅极将离子呈束状引出并加速,具有一定能量的离子束进入工作室,射向固体表面撞击固体表面原子,使材料原子发生溅射,达到刻蚀目的, 属纯物理过程。
IBE刻蚀特点
方向性好,各向异性,陡直度高
分辨率高,
不受刻蚀材料限制(金属和化合物,无机物和有机物,绝缘体和半导体均可)
刻蚀过程中可改变离子束入射角θ来控制图形
轮廓
离子束刻蚀机
离子束刻蚀应用
CYB石油专用传感器

应用先进的离子束溅射和离子束刻蚀工艺,将应变电桥直接制作在金属测压膜片上。由于不用传统的胶粘工艺,显著改善了应变式传感器的长期稳定性及抗蠕变特性,使产品使用的温度范围大为扩展。由于没有活动部件,抗振动和抗冲的能力很强,可用于恶劣的环境。
由于离子束刻蚀对材料无选择性,对于那些无法或者难以通过化学研磨、电介研磨难以减薄的材料,可以的通过离子束来进行减薄。另外,由于离子束能逐层剥离原子层,所以具有的微分析样品能力,并且可以用来进行精密加工。
凹面闪耀全息光栅(广泛应有于各种分析仪器、光通信、生物、
医疗器械等领域。)
采用离子束刻蚀法进行
闪耀加工,因此,可容易地
制造出具有各种闪耀角
(闪耀波长)的闪耀全息光栅
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