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超深亚微米集成电路制造过程中光学邻近效应模拟的研究.pdf

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文档介绍

文档介绍:浙江大学
硕士学位论文
超深亚微米集成电路制造过程中光学邻近效应模拟的研究
姓名:陈志锦
申请学位级别:硕士
专业:电路与系统
指导教师:严晓浪

嚣逐个建露了辩瘦鹊系统蒺型,甓模拟集成电路的生产过程成为现实。R荧键字:兜瓤;穆耩掩横庋Я诮掖脅晚快速意光强计舞;燮偏麓蚀刻横麴、,莹慧技零熬狭遗教旋帮集藏电路设诗鲍逐步宠善,辩拳鼯髂凝造鼓零掇出要撼更高的辫求。集成电路的复杂腹越来越高,最小线宽和最小间距变得越米越小。登鎏查萋鐾圭雯垒燕塞.——————遵二—当集成邀鼹嚣特征尺寸接近毙亥《梳骣巍系统戆分辨援黢辩,焱疆援冀表露澍遥凌来的电鼹版图套有硝最豹碲变,即产舷光学邻近效应咨2哂磅昙傻缏贩斓某善仿省NA思跎傧染倭诮荻岳璩汕路技零发震的影嗡,工监器掇逝了光弱分辨率趱强援零—煞づ从械募神嘎赫柩僭谵黜绲纳跫碌制造出鼹有更小特镊尺寸的集成魄路。象其它煞集成电路设计技本~襻,巍劐分辨枣增强按零毽嚣篓基予舌枰山零戆て浒曛Ъ拘ⅰT诒匈分辨率壤强效寒书,嚣要有懋荆模摈过程皋吏掺和指导。光学邻近校礁技术怒搬粼分辫率蠖强接零豹嚣辩主要鼓零。不嚣篷采羁光学邻邋校菠拽术的掩模潮像韵预失真藏是采瘸穆嘏掩模技术的掩模相位诿整,都要骥溪《程窳黼巍粼条棒下掩模在硅片表瑟的待刻魂潞层上所成的酸像。本文纛深入分耩了煞成电路露《造避糕豹懿提下,磷变了各令互艺过程懿穰型,本文谯建立,乜刻趱糨的模型巾,懑过对光剡枫的工掺原理研究,成功遮建立了光亥《枧照骧系绞黪壤熬,实现科偈芄贪灸^瘢魄司蛄思に唧度亟署黧受基础瓣查表法泉翱捩空瘸烹繇澎弱羧熬;遴避对竞舞黢褥缝熬硬究,鬓璐商斯模激附光刻胶显影、烘烤过程谶行模拟;通过对蚀剡过稳的研究,实现了以鼗据统诗建萋酸靛变镳嫠蚀蘩模鼙对镀蓑邋疆遴行模拟·本文还提供了伉化方法辩备个系统模型避行必簧的优化,并用数嘏统计觞方法辩德证缝豢遴豁统诗,黻确怒最撬的横鍪。鸵葡嘌谀<零。
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