文档介绍：浙江大学
硕士学位论文
基于SOCS的光学光刻系统仿真算法的研究
姓名:周珂
申请学位级别:硕士
专业:电路与系统
指导教师:史峥
20060501
要摘术。在亚波长光刻下,由于光刻和掩模制造过程中的光的衍射及其他物理、化学无论何种分辩率增强技术,都需要有快速、精确、有效的光刻系统模型和相近似算法,即所谓的基于特征函数的算法。实现了光刻仿真工具瞣了几种用于提高算法精度的优化方案。从际踅诘憧J迹氲继逯圃旃ひ罩斜愎惴翰捎昧恕把遣ǔす饪獭奔现象,光刻后硅片表面成像将产生明显的畸变。版图图形转移过程中的失真,将会影响到产品的性能参数,降低集成电路的成品率。为了消除这些负面的影响,半导体业界提出并广泛采用分辨率增强技术魑SΧ浴的采用能够在一定程度上解决亚波长光刻中的失真问题,而相关惴üぞ叩目7⒂τ是解决问题的关键所在。应的算法的支持。掩模补偿技术是目前分辨增强技术的主要形式,利用光刻系统模型,可以预测实际光刻条件下掩模在硅片表面所成的图像,从而做出正确的掩模预补偿。本文主要围绕光刻系统模型的结构和相关算法以及具体实现等问题展开。本文介绍了集成电路制造和光刻工艺的基本流程及相关理论。针对光刻模型的光学成像系统,本文介绍了基本的基于降钠毓庀低衬P鸵约癏的中用于建立掩模图形模型的糠趾陀糜诠馇考扑愕腃糠郑⑻岢关键词:光学成像系统,特征函数,掩模,相干系统与双线性系统浙江大掌硕士学位论二≮摘要
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第一章绪论年初,商业化半导体芯片主流制造技术已经达到迪呖恚ぜ平窈蠼集成电路技术发展概况很快发展成熟到酷逗乃至韵录际酰佣曛咀偶傻缏饭ひ甚大规模集成锥巍辏琁敬词既酥籊半导体器件的特征尺寸以每三年缩小√兜那魇品⒄埂甏缙冢靠樾酒信息产业是世纪世界经济的主导产业和支柱产业。近年来,世界信息产业得到高速发展,世界电子产品市场销售额己超过了汽车、钢铁、石化等产业,成为世界第一大产业。集成电路是信息技术产业群的核心和基础。建立在集成电路技术进步基础上的全球信息化、网络化和知识经济浪潮,使集成电路产业的战略地位越来越重要,对国民经济、国防建设和人民生活的影响也越来越大。集成电路产业已经成为当今世界发展最为迅速和竞争最为激烈的产业。年,美国德州仪器硒琓公司和仙童司各自研制发明了半导体集成电路埃琁之后,集成电路经历了小规模集成泄婺<、大规模集成慕锥危壳耙进入蠊婺<及卮蠊婺<极端,将来甚至会发展到⒈预言,半导体芯片上集成的晶体管数量将每个月翻一番,这就是著名的摩尔定律,它意味着半导体芯片的性能与容量将以指数级增长。集成电路过去多年的发展验证了摩尔定律的正确性,即集成电路芯片的集成度以每三年增加叮上仅集成有数十个晶体管。而钚碌腎芯片上集成有亿个晶体管。已进入了纳米级时代。尽管在进入以下的技术时代以后,半导体技术的发展会遇到来自于材料、物理、器件结构和工艺技术等多方面的挑战,新制程、新技术的开发会越来越困难,但人们仍普遍认为,摩尔定律的正确性至少还可以维持年以上。国际半导体工业和技术发展的指导性规划癱龅甑晔澜缂傻缏工艺发展趋势数据显示,制造工艺不断提高,线宽迅速减小,芯片上集成的晶体浙江大掌硕士掌位论文
管的数目不断增加,芯片结构曰益复杂,面积不断增大【“俊緇”。目前,集成电路主要有两个发展方向。一是依靠特征线宽的不断缩小使集成度和速度不断提高,功耗不断降低,以制造出功能更强、性能更好、用途更广的芯片;二是向将复杂系统集成到单一芯片上的较蚍⒄梗吹ヒ恍酒功能日趋强大。不管集成电路的发展方向如何,都离不开集成电路工艺的发展。根据按比例缩小原理傻缏返奶卣飨呖肀湔诘路器件面积减小的同时它消耗的功率也随着降低,整个电路芯片的工作速度也相应越来越快。因此,集成电路工艺都以其特征线宽作为发展标志。图籰即为对虳饬较畋曛境叽缂跣∏魇的预测。集成电路的生产设计具有一套基本的工业流程,包括从集成电路的设计到掩模版图的制造到最后的芯片的生产。图为目前比较普遍的集成电路设计及制造流程的简要描述。其中的每个过程又包含了若干处理步骤,各处理过程与处理步骤之间相互约束,相互配合,保证了芯片设计生产的顺利完成。集成电路的设计大致可分为前端设计和后端设计两个阶段。前端设计主要决定芯片做什么的问题,即从产品的功能定义出发,用具体的逻辑和原理图来实现。后端设计主要解决怎么做的问题,比如逻辑功能用什么电路实现,芯片上模块和单元怎么摆放、怎么连线等。而随着最新的技术发展,设计步骤逐渐延伸到了传浙江大学硕士学位论文技术发展路线图图
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